一、单组分气体

N2；化肥、氨、硝酸等化合物的制造，惰性保护介质，速冻食品，低温粉碎等的制冷剂、冷却剂，电子工业中的外延、扩散、化学气相沉积，离子注入，等离子干刻、光刻等，还用作标准气、校正气、零点气、平衡气。

充入灯泡能防止钨丝的氧化和减慢钨丝的挥发速度，延长灯泡的使用寿命，代替惰性气体作焊接时的保护气。

真空充氮储粮和水果，博物馆里书籍的保存。

液氮给手术刀降温，“冷刀”手术减少出血或不出血，术后恢复快。

低温存储等。

Xe；用于闪光灯，深度麻醉剂，激光器，焊接，难熔金属切割，标准气，特种混合气。

Kr；用于白炽灯泡，荧光灯，计数管，激光用光源，紫外线源，标准气，特种混合气。

Ar；用于焊接，不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相沉积，晶体生长，热氧化，外延，扩散，多晶硅，钨化，离子注入，载流，烧结等，标准气，零点气，平衡气。

Ne；用于霓虹灯、水银灯、绝缘检测器，高频率验电器，等离子体研究，激光器等，低温冷却剂，标准气，特种混合气。

He；用于超低温研究，气相分析，焊接，探漏，化学气相沉积，晶体生长，等离子干刻，特种混合气等，用作标准气、平衡气、医疗气、气球电子管潜水服等的充气。

Air；呼吸，零点气（合成空气），空气原料。

二、氧化物气体

COS；用 于碳氧化物，硫代酸，硫代碳酸盐和噻唑的合成，校准气。

SO2；制备H2SO4、Na2S等无机硫化物，有机物合成，熏蒸剂，杀虫剂，水果蒸菜的保鲜剂，消毒用杀菌剂，漂白剂，造纸工业，制冷剂，石油精练，镁的冶炼，防腐剂，标准气，校正气，在线仪表标准气。

N2O；牙科、外科、妇产科用麻醉剂，探漏，制冷剂，助燃剂，防腐剂，化工原料，原子吸收光谱用气，半导体制造用平衡气，氧化、化学气相沉积，标准气，医疗气，烟雾喷射剂，真空和带压检漏。

NO；硅的氧化膜形成，氧化、化学气相沉积，火箭推进剂，标准气，校正气，大气监测标准混合气。

NO2；制造硝酸，硝化剂，氧化剂，催化剂，丙烯酸脂聚合抑制剂，标准气，火箭燃料，面粉漂白剂。

CO2；干冰：青霉素制造，鱼类、奶油、奶酪、冰糕等的保存，低温输送，灭火剂，冷却剂；液体CO2：冷却剂，焊接、铸造工业，清凉饮料，灭火剂，碳酸盐类的制造，杀虫剂、氧化防腐剂，植物生长促进剂，发酵工业，药品（局部麻醉），制糖工业，胶及动物胶制造等；气体CO2：在半导体制造中氧化、扩散、化学气相沉积，蔬菜保鲜，某些反应的惰性介质，石墨反应器的热载体，输送易燃液体的压入气体，标准气，校正气，在线仪表标准气，特种混合气。

CO；燃料，还原剂，有机合成的原料，用于制备羰基金属、光气、硫氧化碳、甲酸、甲醇，用于氢化甲酰化作用，用于制备合烃（合成）、酸，乙醇、醛、酮及碳氢化合物的混合物，锌白颜料，氧化铝成膜，标准报，校正气，在线仪表标准气。

O2；化工和冶金中的强氧化剂，制造水煤气和天然气，低温氧化石油气，焊接及切割金属，火箭发动机，输氧呼吸装置，空气净化、液态氧炸药，制冷剂，染料，半导体制造用等离子蚀刻、氧化、扩散、化学气相沉积、标准气、校正气、零点气、在线仪表标准气、医疗气、光导纤维的制备。

三、氢化物气体

H2Se；实验用，掺杂气，制备硒化物，扩散、离子注入。

H2S；化学分析，金属的精制，各种工业试剂、农药、医药品、萤光体、电发光、半导体光电曝光仪，硫及各种硫化物的制备，有机合成的还原剂、标准气、校正气、等离子干刻。

AsH3，扩散、外延生长，离子注入，化合物半导体用气体，化学气相沉积。

PH3；缩合催化剂，聚合引发剂，磷的有机化合物制备，发生气体，外延生长、扩散、离子注入，蚀刻，化学气相沉积，粮仓的杀虫药。

NH3；氮肥，铵盐，硝酸，尿素，丙烯腈，药品染料，金属表面氮化，制冷剂，半导体用气体，氧化、氮化膜，化学气相沉积，标准气、校正气、在线仪表标准气。

GeH4；化学试剂，制取高纯度锗，化学气相沉积，扩散、非晶硅，外延、离子注入。

Si2H6；太阳能电池，非晶硅膜，外延生长，氧化膜，氮化膜，化学气相沉积。

SiH4；硅的外延生长，多晶硅、氧化硅、氮化硅的原料，太阳能电池，光导纤维，有色玻璃制造，化学气相沉积。

B2H6；半导体制造中的扩散和氧化、外延生长，化学气相沉积。

H2；气体燃料，石油精炼，制造油脂、硬化油等人造奶油，甲醇、氨等合成，焊接和金属的切割，气象观测，玻璃的融化，冶金工业，冷却剂（液氢），半导体制造用平衡气，蚀刻气，标准气，零点气，校正气，热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等。

四、碳氢化合物气体

CH4；燃料，标准气，校正气，太阳能电池，非晶硅膜，乙烃、氢气、合成氨、二硫化碳等生产原料。

C3H8；有机合成，燃料、溶剂，制造乙烯、丙烯等，冷冻剂，标准气，校正气，等离子干刻。

C2H6；蚀刻气，标准气，校正气，冶金工业热处理，制备乙烯等原料，燃料，冷冻剂。

C2H2；金属的焊接和切割，有机合成，原子吸收光谱，标准气、校正气、合成橡胶、照明。

C2H4；标准气，校正气，生产聚乙烯等原料，香蕉水果等成熟剂，冷冻剂，焊接和切割，合成纤维。

五、氟化物气体

COF2；有机合成中间体，氟化剂。

CHF3；蚀刻，冷冻剂，有机合成。

CH2F2；致冷剂。

CH3F；喷雾剂，C-F键的研究。

WF6；氟化剂，钨载体，化学气相沉积。

SF6；电子设备，雷达波导，粒子加速器，变压器，避雷器的气   绝缘体，制冷剂，示踪装置，医疗，半导体制造中的蚀刻、化学气相沉积，标准气，检漏气体，色谱仪的载气。

NF3；火箭推进剂，氟化剂，电子气，等离子干刻，掺杂，激光，光导纤维 。

SiF4；有机硅化合物的合成材料，水泥和人造大理石的硬化剂，氟硅酸及氟化硅的制造，硅的外延生长，等离子蚀刻，太阳能电池，复印机感光筒，非晶硅膜生长，化学气相沉积。

C3F8；高压绝缘，制冷剂，等离子干刻。

C2F6；等离子干刻，冷却，制冷和空调，化学反应中的添氟剂，电气设备的绝缘剂。

CF4；制冷，气体绝缘，干蚀刻气，氟化剂，表面处理剂，激光气体泄漏检验剂。

BF3；有机合成催化剂，火箭的高能燃料，核技术，半导体制造用掺杂气，离子注入气，光导纤维制造，烟熏剂。

HF；制备氟里昂气及其他氟化物，乙醇、乙醛、乙醚（液休HF）的溶剂，聚合、烃化反应的催化剂，玻璃雕刻，杀菌剂，清洗金属，清洗铸件，电镀，滤纸的处理，矿石类的分析，锗、硅的蚀刻剂。

F2；火箭燃料的氧化剂，分离铀同位素，金属的焊接和切割，电镀，玻璃加工，卤化氟的原料，氟化物，含氟塑料，氟橡胶的制造，药物，农药，杀虫剂，冷冻剂，等离子蚀刻。

六、氯化物气体

Cl2；有机和无机氯化物的制造，杀虫剂，溶剂，消毒剂，漂白剂，去污剂，生产甘油、塑料等，香料，农药，冶炼，橡胶，干刻，光纤维，晶体生长，热氧化，标准气、校正气。

SiHCl3；单晶硅原料，外延生长，硅液，硅油，化学气相沉积，硅酮化合物制造，电子气。

SiH2Cl2；电子气，外延，化学气相沉积。

SiCl4；有机合成，制造烟幕、战场上用的刺激性毒气，单晶硅原料，光导纤维，外延，蚀刻，化学气相沉积。

BCl3；高纯硼和有机硼的制取，有机合成催化剂，焊接剂，热处理炉镁燃烧的灭火剂，掺杂，蚀刻，光纤维的制造、扩散。

HCl；电池，药品，染料，化肥，玻璃加工，金属清洗，有机合成，腐蚀照相，陶器制造，食品处理，无机氯化物制造，橡胶，催化剂，电子气，标准气，外延，扩散，氧化，蚀刻，化学气相沉积，发光二极管。